红外软烘干灯

在光刻工艺中，软烘烤温度均匀性不是一种偏好——而是一项规格。整个晶圆上1°C的波动可能会影响关键尺寸，损坏侧壁轮廓，并导致每批次的良率下降。我们设计的红外软烘烤灯旨在消除这种变动。 其核心是近红外（NIR）辐射加热，经过调校，能够将能量直接传递到光刻胶上，而不会煮熟其下方的薄膜。晶圆级的均匀性在烘...