Mengapa Kami Melakukan Ujian Stres pada Setiap Sensor IR Ketika memproses silikon, risikonya sangat tinggi. Sedikit sahaja kebocoran arus elektrik...

Mengurangkan Pelepasan Karbon di Kilang Pembuatan: Mengapa Penggunaan Cahaya Inframerah Berkesan Setiap kilang pembuatan kini berusaha keras untuk...

Mari kita bincangkan apa yang sebenarnya berlaku dalam proses pengeluaran semikonduktor yang mempunyai beban tinggi. Kerosakan pada salah satu lampu...

Kami menciptakan Reflektor ini untuk digunakan pada lampu pengeringan wafer, demi menyelesaikan masalah yang sering dihadapi dalam proses pengeringan...

Mengurangkan kos tanpa mengorbankan kualiti dalam sistem pemanasan semikonduktor Mari bincangkan cara untuk mendapatkan prestasi yang diinginkan,...

Di bilik pemprosesan wafer yang canggih ini, anda pasti tahu bagaimana keadaannya. Perubahan suhu sebanyak setengah darjah saja sudah boleh...

Dalam proses litografi, bahan photoresist tidak akan bertoleransi terhadap sebarang perubahan suhu yang kecil sekalipun. Suhu yang tidak konsisten...

Pada garis pengeluaran FO-WLP, lapisan pengagihan haba memainkan peranan penting. Perubahan suhu sebanyak 0.3°C sahaja pun sudah cukup untuk mengubah...

Pada lantai pembuatan, proses photoresist bake bukan sekadar langkah suhu. Ia adalah toleransi. Penyimpangan suhu sebanyak 2°C akan mengubah bias...

Out on the litho floor, pergeseran 0.5°C dalam pembakaran photoresist bukan “kesilapan kecil.” Ia bermakna wafer dibuang, lapisan topeng terbuang,...

Tonton wafer keluar dari bilasan akhir. Jika langkah pengeringan tidak tepat, anda akan mendapat kesan air, lapisan bawah photoresist mula...