Pada garis pengeluaran FO-WLP, lapisan pengagihan haba memainkan peranan penting. Perubahan suhu sebanyak 0.3°C sahaja pun sudah cukup untuk mengubah tekanan pada permukaan cip, menyebabkan pembengkokan acuan, dan akhirnya menurunkan kualiti hasil pengeluaran. Oleh itu, diperlukan pemanas yang mampu mengawal suhu dengan tepat—tanpa perlu membuat anggaran sembarangan.
Apa yang benar-benar penting
Kami telah mencipta pemanas jenis ini untuk digunakan dalam proses pembungkusan cip pada tahap wafer, demi memastikan kawalan suhu yang tepat. Pemanas ini mampu mengekalkan suhu yang seragam sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan cip. Dengan cara ini, setiap cip akan mendapat keadaan suhu yang sama semasa proses pengeringan bahan epoksi, serta semasa proses pemampatan lapisan fotoresist. Zon panas dalam pemanas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih bertaraf Class 1 hingga Class 100; permukaan dan bahan yang digunakan juga direka untuk meminimumkan jumlah zarah debu. Tiada penghasilan zarah debu sama sekali—ini merupakan ciri asas reka bentuk pemanas ini. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan prestasi yang konsisten, dan tindak balas suhunya disesuaikan agar sesuai dengan proses FO-WLP yang memerlukan masa yang singkat, tanpa berlaku penyimpangan suhu yang berlebihan.
FO-WLP memerlukan kawalan suhu yang sangat ketat—proses pembakaran, pengeringan, dan pelapisan perlu dilakukan secara berulang-ulang. Dengan pemanas ini, proses pemampatan lapisan fotoresist dapat dilakukan dengan tepat, lebar jalur pembuatan dapat dikekalkan, dan integriti cip tetap terjaga walaupun melalui proses pemampatan yang keras. Ini akan membawa kepada aliran cecair yang konsisten, pengurangan kegagalan akibat pembengkokan acuan, serta pengurangan sisa produk akibat ketidakteraturan suhu. Reka bentuk pemanas ini yang mempunyai jisim termal yang rendah membolehkan masa penyesuaian suhu dikurangkan, sambil tetap mempertahankan kestabilan suhu. Hasilnya adalah proses pengeluaran yang stabil, kadar pengeluaran yang boleh diramalkan, dan pengurangan masa henti akibat masalah pemanas.
Beberapa perkara praktikal yang perlu dipertimbangkan sebelum memilih pemanas ini. Pemanas ini boleh digabungkan dengan alat-alat FO-WLP yang biasa digunakan, tetapi anda perlu memastikan bahawa saiz dan laluan udara keluar dari pemanas tersebut sesuai dengan mesin anda. Pastikan juga agar bekalan kuasa di bilik bersih stabil—turun naik voltan boleh menyebabkan perubahan pada nilai suhu yang diinginkan. Anda juga perlu bersedia untuk meluangkan masa untuk menyesuaikan parameter PID agar sesuai dengan jenis substrat yang digunakan. Setelah disetel dengan betul, pemanas ini akan dapat mengekalkan suhu sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan wafer, hari demi hari.