팹에서는 잘 알려진 사실이 있습니다. 단 0.5도만의 온도 변동이라도 치명적인 결과를 초래할 수 있습니다. 반면, 과도한 열을 가하면 에너지만 소모되는 것이 아니라 포토레지스트도 손상됩니다. 따라서 필요한 것은, 작업을 반복해도, 기계를 바꿔도, 제품을 생산할 때마다 일정한 온도를 유지해주는 시스템입니다.
저희는 단파 적외선을 활용한 가열 모듈을 개발했습니다. 이 모듈은 빠른 반응 속도와 정밀한 온도 조절 기능을 갖추고 있어, 웨이퍼 표면 전체에 걸쳐 ±0.1°C 이내의 균일한 온도를 유지할 수 있습니다. 그 덕분에 모든 가열 공정에서 온도가 정상 범위 내에 머물게 됩니다.
이 장비는 클래스 1–100급 청정실에서 사용할 수 있으며, 입자 발생을 최소화하도록 설계되었습니다. 24/7 연속 가동이 가능하며, 예기치 않은 정지 시간도 없습니다. 열이 필요할 때만 공급되므로 에너지 소비도 줄어듭니다.
리소그래피 공정에서 일관된 온도 조절은 포토레지스트의 두께를 안정적으로 유지시켜 주며, 불필요한 변형을 방지합니다. 하드 베이크 공정에서도 일정한 온도를 유지함으로써 제품의 품질을 보장할 수 있어, 폐기물과 재작업이 줄어듭니다.
또한, 이 장비는 웨이퍼 세척 및 건조 공정도 처리할 수 있으며, 오염을 방지하여 입자 수를 효과적으로 관리할 수 있습니다. 그 결과, 처리 시간이 단축되고, 생산량이 증가하며, 처리된 웨이퍼당 에너지 소비량도 줄어듭니다. 이 모든 것이 처리 속도를 저하시키지 않으면서 이루어집니다.
실제 설치 과정은 간단합니다. 먼저 기계의 전압과 커넥터 인터페이스를 맞춘 다음, 테스트 과정에서 척과의 열 접촉 상태를 확인합니다. 이 모듈은 크기가 작지만, 공기 흐름과 유지보수를 위한 공간은 충분히 확보되어 있습니다.
포토레지스트의 특성에 맞게 설정을 조정하는 데는 짧은 시간이 걸립니다. 한 번 설정되면, 그 설정은 계속 유지되며, 작업을 반복해도 변동이 없습니다.