Cara Memanfaatkan Kemampuan Pemanas di Meja Kerja Ruang Bersih Secara Optimum Jika anda pernah menggunakan pemanas untuk memanaskan wafer silikon,...

Melindungi Lampu Inframerah daripada Bahan Kimia Jika anda sedang membina biosensor, anda pasti tahu betapa berbahayanya proses pembersihan...

Mengawal suhu semasa proses pembilasan wafer Ketika membilas wafer, anda sebenarnya sedang berjuang melawan masa. Anda perlu menghilangkan kelembapan...

Mengapa kita perlu memeriksa prestasi perisai kuarsa dengan teliti Bayangkanlah perisai kaca kuarsa yang terdapat dalam lampu pembakaran tersebut...

Menjaga Kebersihan: Sistem Pemanasan di Bilik Bersih Kelas 100 Ketika bekerja di bilik bersih kelas 100, sistem pemanasan bukan sekadar untuk...

Hentikan penggunaan lampu IR biasa: Kelebihan menggunakan lampu IR yang dilapisi emas Jika anda pernah bekerja di kilang pengeluaran semikonduktor,...

Menjaga Kebersihan Bilik Bersih Kelas 100 Jika anda mengendalikan bilik bersih kelas 100, anda pasti tahu betapa sukar untuk memastikan bahawa tiada...

Berhenti membazir masa: Mengapa kita beralih kepada lampu inframerah tanpa ozon Pernahkah anda rasa seolah-olah anda hanya menunggu peralatan anda...

Kami menciptakan Reflektor ini untuk digunakan pada lampu pengeringan wafer, demi menyelesaikan masalah yang sering dihadapi dalam proses pengeringan...

Mengurangkan kos tanpa mengorbankan kualiti dalam sistem pemanasan semikonduktor Mari bincangkan cara untuk mendapatkan prestasi yang diinginkan,...

Dalam proses litografi, bahan photoresist tidak akan bertoleransi terhadap sebarang perubahan suhu yang kecil sekalipun. Suhu yang tidak konsisten...

Dalam proses pengeluaran paparan fleksibel, langkah pengeringan bukan sekadar waktu rehat semata-mata. Ia merupakan titik penting yang membezakan...

Di fasiliti pembuatan cip ini, anda tidak boleh bersembunyi di sebalik had toleransi yang ditetapkan. Sebarang perbezaan suhu sebanyak setengah...

Pada lantai proses pembuatan wafer, suhu pemanasan bahan fotoresist bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan spesifikasi yang perlu...

Di lantai fabrikasi, perbezaan 0.3°C semasa proses pemanggangan photoresist bukanlah “penyimpangan kecil.” Ia memberi kesan kepada hasil pengeluaran....

Di lantai litografi, keseragaman suhu pengeringan lembut bukanlah pilihan - ia adalah spesifikasi. Perubahan 1°C di seluruh wafer boleh mengubah...

Tonton wafer keluar dari bilasan akhir. Jika langkah pengeringan tidak tepat, anda akan mendapat kesan air, lapisan bawah photoresist mula...