Trong quy trình sản xuất wafer, bạn biết đấy, mọi thứ đều phải được kiểm soát chính xác. Chỉ cần nhiệt độ nung thay đổi vài mươi phần trăm độ, kích thước của wafer có thể thay đổi vài nanomet – điều này dẫn đến việc wafer bị hỏng. Các cảm biến nhiệt độ dùng để theo dõi nhiệt độ của wafer không phải là thiết bị phụ; chúng giúp kiểm soát nhiệt độ trong các bước xử lý như nung mềm, nung cứng, và vệ sinh wafer. Khi độ đồng đều của nhiệt độ không được đảm bảo, tỷ lệ wafer thành phẩm sẽ giảm xuống.
Chúng tôi đã thiết kế những cảm biến này để duy trì độ đồng đều của nhiệt độ ở mức ±0,1°C, với khả năng phản ứng nhanh và độ chính xác cao. Các linh kiện cảm biến được đặt trong vỏ bọc phù hợp với môi trường phòng sạch, đáp ứng các tiêu chuẩn từ loại 1 đến 100. Các vật liệu được chọn để giảm thiểu hiện tượng thoát khí và ngăn chặn sự hình thành các hạt bụi. Đầu ra của cảm biến luôn ổn định 24/7, giúp tránh những sự cố không mong muốn bằng cách cảnh báo ngay khi có sự thay đổi về nhiệt độ. Ngoài ra, cảm biến còn có khả năng được hiệu chuẩn lại sau hàng nghìn lần sử dụng.
Trong quy trình xử lý phim quang học, bước nung mềm giúp xác định thành phần dung môi, còn bước nung cứng giúp cố định hình ản trên wafer. Việc kiểm soát nhiệt độ chính xác giúp thu hẹp khoảng thời gian nung, giảm thiểu việc phải làm lại công đoạn xử lý, và giúp đảm bảo độ đồng đều của kích thước các đường nét trên wafer. Nhờ đó, chất lượng wafer được cải thiện, số lượng hạt bụi giảm, và mức tiêu thụ năng lượng cũng giảm đi. Trong quy trình vệ sinh và sấy khô wafer, độ chính xác này giúp duy trì độ ổn định của năng lượng bề mặt, từ đó cải thiện chất lượng việc sấy khô và giảm thiểu các khiếm khuyết trên wafer.
Độ chính xác trong việc lắp đặt cảm biến cũng rất quan trọng. Cảm biến cần được đặt ở vị trí trung tâm của khu vực nung, và phải tương thích với các kết nối và giao diện lắp đặt của máy móc. Bạn chỉ cần thực hiện một vài bước điều chỉnh ngắn để đảm bảo độ chính xác của cảm biến. Trong môi trường có độ ẩm cao, cần kiểm tra kỹ các kết nối và lên kế hoạch hiệu chuẩn định kỳ để duy trì độ chính xác ±0,1°C.