Mengawal suhu semasa proses pembilasan wafer
Ketika membilas wafer, anda sebenarnya sedang berjuang melawan masa. Anda perlu menghilangkan kelembapan tersebut dengan cepat, tetapi anda tidak boleh menggunakan haba yang berlebihan, kerana ia akan merosakkan substrat wafer tersebut.
Untuk mencapai hasil yang baik, kita gunakan lampu inframerah yang tahan air. Namun, rahsia sebenarnya terletak pada reflektor yang dilapisi emas. Tanpa reflektor ini, tenaga haba akan hilang begitu saja ke dalam badan mesin. Ini merupakan pembaziran tenaga dan masa.
Mengapa emas?
Kebanyakan orang menggunakan reflektor yang diperbuat daripada aluminium, tetapi bahan ini menyerap terlalu banyak tenaga inframerah. Emas pula berbeza; ia sangat efektif dalam memantulkan cahaya inframerah kembali ke tempat yang sepatutnya, iaitu pada wafer tersebut.
Ia sama seperti cara untuk memfokuskan tenaga tersebut. Daripada menggunakan lebih banyak lampu, anda hanya perlu menggunakan lampu yang ada sahaja. Dengan cara ini, anda dapat mendapatkan suhu yang lebih tinggi di kawasan yang diperlukan.
Menghadapi masalah kelembapan
Lampu-lampu ini berada dalam persekitaran yang lembap. Air sentiasa ada di sekelilingnya, dan ia mudah masuk ke dalam lampu tersebut. Jika kelembapan masuk ke dalam lapisan kuarsa lampu tersebut, lampu itu akan rosak lebih awal daripada yang sepatutnya. Itulah sebabnya kita perlu memastikan sambungan antara wayar dan lampu tersebut sempurna. Jika sambungan tersebut tidak sempurna, maka mesin anda akan rosak.
Keseimbangan antara kos dan keberkesanan
Sejujurnya, emas bukanlah bahan yang murah. Kos permulaannya akan lebih tinggi berbanding penggunaan aluminium yang telah diproses. Namun, anda dapat menjimatkan wang dalam jangka panjang, kerana penggunaan tenaga akan tetap rendah walaupun suhu yang dihasilkan tinggi.
Perlu diingat, anda perlu menjaga lampu-lampu ini dengan baik. Jika bahan kimia menumpuk atau emas mula teroksida, reflektiviti lampu akan berkurangan. Akibatnya, anda perlu meningkatkan kuasa lampu tersebut, dan ini akan menyebabkan wafer menjadi rosak.
Patuhi jadual pembersihan yang ketat. Ia merupakan usaha kecil untuk memastikan tenaga digunakan dengan efektif dan wafer tetap selamat.