İşlem sırasında, fotorezist hataları affetmez. Hafif bir ısıtma bile CD kontrolünü bozar ve böylece tüm yüzeyde kusurlar aramak zorunda kalırsınız. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için DNS ekranlı wafer kurutucu lambası geliştirdik.
Önemli olan şeyler
Wafer yüzeyinde ±0,1°C’lik bir sıcaklık düzenliliği sağlanır; böylece her bölge aynı termal koşulları yaşar. Temiz oda uyumluluğu sadece bir iddia değildir – 1–100 sınıfı temiz odalar, montaj sürecinde parçacık üretimi olmadığı için bu standartlara uyar. Kısa dalga infra kızılötesi ışınları doğrudan substratı ısıtır; bu sayede ısınma süresi kısalar ve enerji tüketimi azalır. Kuvarsla kaplı yayıcı, fotorezist işlemleri için belirlenen sıcaklık profillerinde sabit kalır ve kontrol döngüsü de ayar noktalarının her seferinde tekrarlanmasını sağlar.
Litografide neden kullanılır?
Litografi işlemlerinde, kurutucu lamba ısıtma sürecini kontrol altında tutar; bu da çizgi genişliklerindeki sapmaları ve yeniden işlemleri azaltır. Ayar noktasına ulaşma süresi daha kısadır ve fotorezistin yapışma özelliği zarar görmez. Düzenli termal profil sayesinde yüksek miktarlardaki üretimlerde de verimlilik korunur. Sonuç olarak daha az atık wafer, daha düşük atık maliyeti ve fabrikadaki makineler arasında tutarlı performans elde edilir.
Montaj ve bakım için notlar
Montaj sırasında, cihazın arayüzünün uyumlu hale getirilmesi ve lamba bölgesinin negatif basınçta kalması için egzoz yolunun doğru şekilde ayarlanması gerekmektedir. Lamba 24/7 çalışacak şekilde tasarlanmıştır; ancak her hassas ısı kaynağı gibi, güç kaynağı ve soğutma sisteminin de bu iş yüküne uygun olması gerekir. Uzun vadede tutarlılık sağlamak için lambaların düzenli olarak değiştirilmesi gerekmektedir.