Di bilik pengeluaran, anda pasti tahu prosedurnya. Suhu yang sedikit berbeza sebanyak setengah darjah pun boleh mengubah dimensi penting bahan yang digunakan. Suhu yang terlalu tinggi pula bukan sahaja akan membazir tenaga, tetapi juga merosakkan bahan fotoresist tersebut. Apa yang diperlukan ialah suhu yang konsisten, dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain, dari satu alat ke alat yang lain, dan dari satu kumpulan bahan ke kumpulan bahan yang lain.
Kami telah membina modul pemanasan yang menggunakan gelombang inframerah jarak pendek. Ia membolehkan kawalan suhu yang tepat, sehingga memberikan keseragaman suhu pada permukaan wafer sekitar ±0.1°C. Dengan cara ini, setiap proses pemanasan dapat dilakukan dalam lingkungan had suhu yang ditetapkan, tanpa ada penyimpangan.
Platform ini sesuai untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dan direka untuk menghasilkan sifar zarah kontaminan. Ia beroperasi 24/7 tanpa sebarang masa henti yang tidak dirancang. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana haba dihasilkan mengikut keperluan, dengan hilangan tenaga yang minimum dan tiada masa tunggu semasa proses pemanasan.
Dalam proses litografi, proses pemanasan yang konsisten dapat mengekalkan ketebalan bahan fotoresist secara stabil, serta mengurangkan masalah pada tepi bahan tersebut. Suhu yang konsisten semasa proses pemanasan yang intensif pula memastikan profil bahan tetap sesuai dengan spesifikasi yang ditetapkan, sekali gus mengurangkan pembaziran bahan dan keperluan untuk melakukan kerja pembaikan.
Platform yang sama juga digunakan untuk proses pembersihan dan pengeringan wafer, tanpa menimbulkan kontaminasi. Ini memastikan jumlah zarah kontaminan tetap terkawal. Hasilnya, masa proses menjadi lebih cepat, kadar pengeluaran meningkat, dan penggunaan tenaga per wafer berkurangan—tanpa mengorbankan ketepatan suhu yang diperlukan.
Berikut adalah butiran praktikalnya. Proses pemasangan melibatkan penyerasian voltan dan antaramuka connector alat tersebut, serta pengesahan hubungan termal antara alat tersebut dengan chuck semasa proses pensijilan. Modul ini berukuran kompak, tetapi perlu disediakan ruang yang cukup untuk aliran udara dan akses untuk penyelenggaraan.
Proses penyesuaian parameter proses memerlukan masa yang singkat sahaja. Setelah disetel, proses tersebut akan berjalan secara konsisten dari satu sesi pengeluaran ke sesi yang lain.