در فرآیندهای تولید، میدانید که چه اتفاقاتی میافتد. حتی تغییر نیم درجهای در دمای پخت، میتواند باعث تغییرات نانومتری در ابعاد محصول شود؛ و این امر منجر به از بین رفتن محصول میشود. سنسورهای دمایی مورد استفاده برای کنترل دما، جزئیات اضافی نیستند؛ بلکه آنها بودجه حرارتی لازم برای فرآیندهای لیتوگرافی، پخت نرم و سخت رزست، و شستشوی ویفر را تعیین میکنند. وقتی که یکنواختی دما کاهش یابد، کیفیت محصول نیز کاهش مییابد.
ما این سنسورها را طوری طراحی کردهایم که یکنواختی حرارتی در سطح ویفر را در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ کنند؛ همچنین، این سنسورها دارای پاسخدهی سریع و قابل تکرار هستند. عنصر حسگر در یک محفظه مناسب برای استفاده در اتاقهای پاک قرار دارد؛ این محفظه نیز مطابق با استانداردهای کلاس ۱ تا ۱۰۰ طراحی شده است. مواد مورد استفاده نیز به گونهای انتخاب شدهاند که از خروج گازها و تولید ذرات جلوگیری شود. خروجی سنسور نیز ۲۴/۷ پایدار باقی میماند؛ همچنین، این سنسورها امکان شناسایی تغییرات دما در زمان واقعی را فراهم میکنند و کالیبراسیون آنها نیز در هزاران چرخه حفظ میشود.
در فرآیند پردازش رزست، پخت نرم مسئول تنظیم پروفایل حلالها است؛ در حالی که پخت سخت، تصویر را ثابت میکند. کنترل دقیق دما، باعث کاهش زمان پخت، کاهش کارهای تکراری، و بهبود توزیع عرض خطوط میشود. همچنین، این کنترل دقیق باعث کاهش استفاده از انرژی میشود، زیرا چرخه کنترل، نوسانات شدید دما را کنترل میکند. در فرآیندهای شستشو و خشک کردن ویفر نیز، همین دقت باعث استابیلی انرژی سطحی و بهبود کیفیت خشک کردن میشود.
محدودیتهای نصب نیز بسیار دقیق هستند؛ سنسور باید در مرکز حرارتی منطقه داغ قرار بگیرد و با اتصالات و رابطهای دستگاه هماهنگ باشد. انتظار میرود که فرآیند تنظیم سنسور کوتاه باشد تا میزان یکنواختی دما در سطح ویفر مشخص شود. در محیطهایی با رطوبت بالا، باید از سلامت اتصالات سنسور اطمینان حاصل کرد و کالیبراسیون دورهای را انجام داد تا محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ شود.