<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Віфлеємський Хлібець on Infrared Heating Lamp Sets</title>
		<link>http://ir-heat-sets.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC%D1%81%D1%8C%D0%BA%D0%B8%D0%B9-%D1%85%D0%BB%D1%96%D0%B1%D0%B5%D1%86%D1%8C/</link>
		<description>Recent content in Віфлеємський Хлібець on Infrared Heating Lamp Sets</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 27 Jun 2026 04:35:31 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-sets.com/uk/tags/%D0%B2%D1%96%D1%84%D0%BB%D0%B5%D1%94%D0%BC%D1%81%D1%8C%D0%BA%D0%B8%D0%B9-%D1%85%D0%BB%D1%96%D0%B1%D0%B5%D1%86%D1%8C/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа для сушарки пластин DNS (Screen)</title>
				<link>http://ir-heat-sets.com/uk/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:35:31 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-sets.com/uk/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Лампа для сушарки пластин DNS (Screen)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Під час процесу фотолітографії фоторезист не прощає жодних відхилень у температурі. Навіть незначні відхилення під час нагрівання можуть порушити контроль за процесом, і доводиться шукати дефекти по всій поверхні пластини. Ми створили спеціальну лампу для сушіння пластин, яка допомагає усунути ці відхилення.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим при роботі лампи&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Температура на поверхні пластини залишається стабільною – приблизно ±0,1°C. Таким чином кожна зона пластини отримує однакову температуру. Сумісність з чистими приміщеннями також є важливою характеристикою – приміщення класу 1–100 залишаються в межах допустимих значень кількості частинок, оскільки лампа не створює підвищеної кількості частинок під час роботи. Короткохвильове інфрачервоне випромінювання нагріває поверхню пластини безпосередньо, тож процес нагрівання відбувається швидко, а енергоспоживання зменшується. Емітер, загорнутий у кварц, забезпечує стабільність температури під час обробки фоторезисту. Система керування забезпечує постійну стабільність параметрів нагріву.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
