Refletor on Infrared Heating Lamp Sets

Lâmpada infravermelha com refletor de ouro

Thu, 09 Jul 2026 05:23:40 +0800

Lâmpada Infravermelha com Refletor de Ouro: Transformando cada watt de energia em calor útil para a placa semicondutora
Vamos direto ao ponto. No processamento de semicondutores, é necessário ter calor exatamente onde e quando precisamos – sem desperdícios. É por isso que criamos a lâmpada infravermelha com refletor de ouro. Ela converte eletricidade em radiação térmica focada, direcionada diretamente para a placa semicondutora.

Potência, tensão e tamanho: adaptados às suas necessidades
Projetamos essa lâmpada halógena infravermelha para gerar grande quantidade de calor em um espaço pequeno. Você pode escolher a potência e a tensão adequadas para atender às necessidades elétricas e térmicas da sua linha de produção.

Refletor para lâmpada de cura de wafer

Thu, 09 Jul 2026 05:04:57 +0800

Construímos este refletor para lâmpadas de cura de wafers, com o objetivo de resolver um grande problema que existe nas linhas de produção: como aplicar a maior quantidade possível de energia térmica no wafer, sem transformar toda a máquina em um forno? A ideia é simples: direcionar o calor exatamente para onde ele precisa ir.

Potência, tensão e geometria: o trio essencial A cura por infravermelho depende muito da velocidade e do foco do calor aplicado. Ajustamos o sistema da lâmpada para que a maior quantidade possível de energia seja direcionada para um ponto específico e controlado. A tensão e a potência são escolhidas de modo a atingir rapidamente a temperatura desejada – menos tempo de tratamento e maior produção. Além disso, o comprimento físico do refletor é adequado ao processo, de modo que o calor cubra o wafer e pare nos seus bordes. É preciso equilibrar tudo isso. Quando se aplica tanto calor, o sistema de resfriamento da máquina precisa ser eficaz, caso contrário, a temperatura ambiente aumentará.

Refletor de alumínio para lâmpada infravermelha

Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800

Na linha de produção, não se pode se esconder hinter as tolerâncias estabelecidas. Uma desviação de meio grau na temperatura da placa de aquecimento resulta em variações na espessura das linhas, o que acaba causando perdas de wafers. Quando os tempos de cozimento são medidos em segundos e graus, não há margem para erros. O conjunto de lâmpadas IR precisa fornecer calor estável e repetível – caso contrário, o processo de litografia não funcionará corretamente.