IR on Infrared Heating Lamp Sets

Precisie IR sensor voor wafer

Mon, 27 Jul 2026 08:19:41 +0800

Waarom we elke IR-sensor testen onder hoge spanning

Wanneer je silicium verwerkt, zijn de risico’s enorm. Eén klein elektrisch lekje? Dat is het einde van je hele batch.
Daarom doen we geen ‘stekproeftesten’. We controleren niet alleen om de tien sensoren en hopen op het beste resultaat. We laten iedere sensor eerst worden getest op zijn isolatiewaarde, voordat deze überhaupt onze fabriek mag verlaten.

Opzettelijk beschadigen van sensoren

Het punt is dat we de isolatie opzettelijk tot zijn limiet drijven. We willen zo de zwakke punten vinden.
Door de spanning flink op te drijven – ver boven de normale waarden – dwingen we de verborgen gebreken zich te manifesteren. We kijken naar zaken die je niet kunt zien: microscopische luchtbellen in het epoxYPasta of een kleine barst in het keramiek.
Als er een kortsluiting optreedt, willen we dat dit hier gebeurt. Ik geef liever toe dat een sensor in mijn laboratorium kapotgaat, dan dat dit gebeurt in uw vacuümcel.

Aluminiumreflector voor IR lamp

Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800

Op de productielijn kun je je niet verschuilen achter toleranties. Een afwijking van een halve graad op de warmtebron leidt tot variaties in de dikte van de lijnen op het siliciumplaatje, en dat resulteert in verspilde plaatjes. Wanneer de tijden die nodig zijn voor het soft-bake- en hard-bake-proces in seconden en graden worden gemeten, is er geen ruimte voor fouten. De IR-lamp moet stabiele en herhaalbare warmte leveren – anders werkt de lithografieproces niet goed.

Dit is wat technisch gezien belangrijk is: Onze aluminiumreflectoren voor IR-lampen zijn ontworpen met rekening gehouden met de thermische behoeften van halfgeleiders. Ze zorgen ervoor dat de uniformiteit op het siliciumplaatje binnen ±0,1°C blijft, zodat het energieverbruik overeenkomt met de vereisten van het proces. Het oppervlak is gepolijst en behandeld om uitgaande gassen en deeltjes te verminderen, zodat de zuiverheid op het gewenide niveau blijft. Herhaalbaarheid wordt bereikt door een stabiele reflectierende geometrie en constante emissiviteit. Hierdoor blijft de temperatuur altijd op het gewenste niveau.

Keramische eindkap voor IR emitter

Sun, 21 Jun 2026 06:00:29 +0800

Op het geweven oppervlak van de wafer heeft zelfs een kleine afwijking van een fractie van een graad tot gevolg dat de controle over de dikte van de fotorezystlaag en de opbrengst van het proces ernstig wordt beïnvloed. Thermische onzekerheden zijn dus absoluut niet acceptabel. De keramische afsluiting van de IR-emitters zorgt er juist voor dat deze onzekerheden worden weggenomen en dat het thermische veld stabiel blijft, precies waar het nodig is: op de wafer.

Wat echt belangrijk is De keramische afsluiting vormt de thermische verbinding en zorgt er tegelijkertijd voor dat de IR-emitter goed wordt gefixeerd. Ze zorgt voor lage uitstoot van gassen, hoge thermische stabiliteit en een stevige constructie. Hierdoor blijft de uniformiteit over het hele oppervlak van de wafer onder de millimetergrens, en blijven de temperatuurprofielen constant, zodat dit elke keer weer het geval is.