Pembuatan on Infrared Heating Lamp Sets

Pembuatan biosensor menggunakan lampu inframerah

Fri, 24 Jul 2026 11:19:30 +0800

Melindungi Lampu Inframerah daripada Bahan Kimia
Jika anda sedang membina biosensor, anda pasti tahu betapa berbahayanya proses pembersihan menggunakan bahan kimia. Bahan-bahan pelarut tersebut mudah terbakar atau meletup. Meletakkan lampu inframerah biasa di dalam campuran bahan kimia tersebut sama saja seperti menciptakan peluang untuk berlakunya percikan api.

Kami memutuskan untuk tidak menggunakan cara ini lagi. Daripada membiarkan komponen pemanas terdedah kepada udara, kami menyimpannya dalam sistem pelindung yang tertutup rapat.

Perlindungan daripada wap kimia
Cara kerjanya adalah dengan memasukkan tiub kuarza inframerah ke dalam lapisan pelindung yang tahan terhadap bahan kimia. Ia berfungsi sebagai “kulit pelindung” yang menghalang komponen pemanas daripada bersentuhan dengan wap kimia. Kedua-dua hujung tiub tersebut ditutup menggunakan penutup khas yang dapat mencegah percikan api. Walaupun tiub tersebut pecah dan menghasilkan percikan elektrik, sistem pelindung ini akan menghalang percikan tersebut daripada sampai ke wap kimia. Ini merupakan langkah yang sangat penting untuk memastikan lab tidak terbakar.

Penyelesaian pengeluaran pakaian yang mampan

Fri, 10 Jul 2026 12:51:23 +0800

Mengapa Pemanasan Inframerah Lebih Baik daripada Penggunaan Udara Panas di Kilang Semikonduktor

Mari kita bincangkan tentang “kos masa”. Di kilang semikonduktor, menunggu merupakan hal yang sangat merugikan. Sama ada anda sedang menunggu ruang tersebut mencapai suhu tertentu, atau hanya berharap haba dapat meresap ke dalam wafer, setiap saat yang terbuang adalah peluang yang hilang untuk meningkatkan kelajuan pengeluaran.

Itulah sebabnya peralihan dari penggunaan udara panas kepada pemanasan inframerah merupakan langkah yang sangat penting.

Masalah dengan penggunaan udara panas
Bayangkan bagaimana cara kerja ketuhar konveksi. Udara dipanaskan terlebih dahulu, kemudian udara tersebut memanaskan permukaan objek secara perlahan-lahan. Ini merupakan sistem yang melibatkan perantaraan udara. Ini menyebabkan kelewatan yang boleh menjadi sangat menjengkelkan apabila kita ingin mempercepat prosesnya.

Peralatan barisan fabrikasi wafer

Sun, 07 Jun 2026 03:38:59 +0800

Pada lantai pembuatan, proses photoresist bake bukan sekadar langkah suhu. Ia adalah toleransi.
Penyimpangan suhu sebanyak 2°C akan mengubah bias dimensi kritikal, dan sejumlah kecil partikel boleh merosakkan banyak die yang baik. Anda memerlukan kawalan terma yang berfungsi seperti parameter proses sebenar, bukan sekadar tambahan yang dipasangkan pada peralatan.

Apa yang penting di bawah permukaan

Kami membina sistem terma tahap wafer dengan keunikan pengulangan dan pelaksanaan bersih. Rekabentuk pemanasan halogen dan NIR mengekalkan kawalan ketat merentasi permukaan wafer, dengan kestabilan ±0.1°C sepanjang filem semasa soft bake dan hard bake.
Komponen kuarza dan rakitan diperkuat serat karbon mengurangkan penghasilan gas luar dan mengekalkan geometri zon panas yang stabil. Ini menghasilkan pengaktifan kimia photoresist yang konsisten — kawalan edge bead yang boleh diramal, peralihan kaca yang stabil, dan selektiviti etch yang berulang.
Gelung kawalan disetel untuk penyelesaian cepat dengan overshoot minimum, supaya anda tidak membazirkan bajet terma sepanjang batch.