<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pantul on Infrared Heating Lamp Sets</title>
		<link>http://ir-heat-sets.com/ms/tags/pantul/</link>
		<description>Recent content in Pantul on Infrared Heating Lamp Sets</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-sets.com/ms/tags/pantul/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Reflektor aluminium untuk lampu inframerah</title>
				<link>http://ir-heat-sets.com/ms/posts/aluminum-reflector-for-ir-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-sets.com/ms/posts/aluminum-reflector-for-ir-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Reflektor aluminium untuk lampu inframerah&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di fasiliti pembuatan cip ini, anda tidak boleh bersembunyi di sebalik had toleransi yang ditetapkan. Sebarang perbezaan suhu sebanyak setengah darjah pada permukaan pemanas akan menyebabkan &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;variasi&lt;/a&gt; ketebalan garisan pada wafer tersebut, dan ini akan menyebabkan wafer tersebut menjadi tidak berguna. Apabila masa proses pemanasan &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;diukur&lt;/a&gt; dalam saat dan darjah, tiada ruang untuk kesilapan. Komponen lampu IR perlu menghasilkan haba yang stabil dan konsisten; jika tidak, proses litografi akan gagal kerana faktor kimia yang tidak terkawal.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Inilah yang penting dari segi teknikalnya. Reflektor aluminium yang digunakan untuk lampu IR dibina berdasarkan prinsip termal semikonduktor. Ia memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C, supaya profil tenaga yang dihasilkan sesuai dengan apa yang diharapkan oleh proses pengeluaran. Permukaan reflektor tersebut diproses dengan teliti untuk mengurangkan pelepasan gas dan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Dengan cara ini, kualiti wafer dapat dipertahankan pada tahap yang tinggi. Keseragaman hasil proses dicapai melalui geometri reflektor yang stabil serta emisitiviti yang konsisten. Dengan demikian, suhu dapat dikawal dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
