<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Keluar on Infrared Heating Lamp Sets</title>
		<link>http://ir-heat-sets.com/ms/tags/keluar/</link>
		<description>Recent content in Keluar on Infrared Heating Lamp Sets</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Wed, 17 Jun 2026 15:29:20 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heat-sets.com/ms/tags/keluar/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk pembungkusan pada peringkat wafer</title>
				<link>http://ir-heat-sets.com/ms/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/</link>
				<pubDate>Wed, 17 Jun 2026 15:29:20 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heat-sets.com/ms/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk pembungkusan pada peringkat wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada garis pengeluaran FO-WLP, lapisan pengagihan haba memainkan peranan penting. Perubahan suhu sebanyak 0.3°C sahaja pun sudah cukup untuk mengubah tekanan pada permukaan cip, menyebabkan pembengkokan acuan, dan akhirnya menurunkan kualiti hasil pengeluaran. Oleh itu, diperlukan pemanas yang mampu mengawal suhu dengan tepat—tanpa perlu membuat anggaran sembarangan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang benar-benar penting&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami telah mencipta pemanas jenis ini untuk digunakan dalam proses pembungkusan cip pada tahap wafer, demi memastikan kawalan suhu yang tepat. Pemanas ini mampu mengekalkan suhu yang seragam sekitar ±0.1°C di seluruh permukaan cip. Dengan cara ini, &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;setiap&lt;/a&gt; cip akan mendapat keadaan suhu yang sama semasa proses pengeringan bahan epoksi, serta semasa proses pemampatan lapisan fotoresist. Zon panas dalam pemanas ini sesuai digunakan dalam bilik bersih bertaraf Class 1 hingga Class 100; permukaan dan bahan yang digunakan juga direka untuk meminimumkan jumlah zarah debu. Tiada penghasilan zarah debu sama sekali—ini merupakan ciri asas reka bentuk pemanas ini. Sistem ini beroperasi 24/7 dengan prestasi yang konsisten, dan tindak balas suhunya disesuaikan agar sesuai dengan proses FO-WLP yang memerlukan masa yang singkat, tanpa berlaku penyimpangan suhu yang berlebihan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
