IR on Infrared Heating Lamp Sets

Penderia IR yang tepat untuk wafer.

Mon, 27 Jul 2026 08:19:36 +0800

Mengapa Kami Melakukan Ujian Stres pada Setiap Sensor IR

Ketika memproses silikon, risikonya sangat tinggi. Sedikit sahaja kebocoran arus elektrik boleh menyebabkan keseluruhan kumpulan produk tersebut menjadi tidak berguna. Itulah sebabnya kami tidak melakukan ujian sampel sahaja. Kami menguji setiap unit sensor secara menyeluruh sebelum ia keluar dari fasiliti kami.

Sengaja Menciptakan Kegagalan

Sebenarnya, kami sengaja menekan komponen insulasi hingga ke batasnya. Kami ingin mencari titik-titik lemah pada sensor tersebut. Dengan menggunakan voltan yang sangat tinggi, kita dapat melihat kecacatan yang tersembunyi. Kita mencari kecacatan yang tidak dapat dilihat dengan mata kasar—seperti gelembung udara di dalam bahan epoksi atau retakan halus pada logam seramik. Jika ada kemungkinan berlaku kegagalan, kami lebih rela sensor tersebut rosak di makmal kami daripada ia rosak di dalam bilik vakum anda.

Reflektor aluminium untuk lampu inframerah

Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800

Di fasiliti pembuatan cip ini, anda tidak boleh bersembunyi di sebalik had toleransi yang ditetapkan. Sebarang perbezaan suhu sebanyak setengah darjah pada permukaan pemanas akan menyebabkan variasi ketebalan garisan pada wafer tersebut, dan ini akan menyebabkan wafer tersebut menjadi tidak berguna. Apabila masa proses pemanasan diukur dalam saat dan darjah, tiada ruang untuk kesilapan. Komponen lampu IR perlu menghasilkan haba yang stabil dan konsisten; jika tidak, proses litografi akan gagal kerana faktor kimia yang tidak terkawal.

Inilah yang penting dari segi teknikalnya. Reflektor aluminium yang digunakan untuk lampu IR dibina berdasarkan prinsip termal semikonduktor. Ia memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C, supaya profil tenaga yang dihasilkan sesuai dengan apa yang diharapkan oleh proses pengeluaran. Permukaan reflektor tersebut diproses dengan teliti untuk mengurangkan pelepasan gas dan zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Dengan cara ini, kualiti wafer dapat dipertahankan pada tahap yang tinggi. Keseragaman hasil proses dicapai melalui geometri reflektor yang stabil serta emisitiviti yang konsisten. Dengan demikian, suhu dapat dikawal dengan tepat mengikut spesifikasi yang ditetapkan.

Hujung gentian seramik untuk pemancar IR

Sun, 21 Jun 2026 06:00:29 +0800

Di permukaan wafer, sebarang perubahan suhu walaupun sedikit sebanyak pun boleh merosakkan kawalan ketebalan lapisan fotoresist serta kualiti hasil pengeluaran. Ketidakpastian berkaitan suhu bukanlah sesuatu yang boleh diterima. Kap penutup seramik pada komponen pemancar IR berfungsi untuk mengurangkan ketidakpastian tersebut, dan memastikan medan haba kekal stabil di tempat yang sepatutnya, iaitu pada permukaan wafer.

Apa yang benar-benar penting
Kap penutup seramik berfungsi sebagai antaramuka termal dan penstabil mekanikal yang membantu mengekalkan kedudukan pemancar IR pada posisi yang tepat. Sifat-sifat seperti pengeluaran gas yang rendah, kestabilan termal yang tinggi, serta struktur yang kukuh membolehkan keseragaman yang tinggi pada seluruh permukaan wafer, serta profil suhu yang stabil dari satu kitaran ke kitaran yang lain.