http://ir-heat-sets.com/ja/tags/%E3%83%AC%E3%83%99%E3%83%AB/ Recent content in レベル on Infrared Heating Lamp Sets Hugo ja Wed, 17 Jun 2026 15:29:19 +0800 http://ir-heat-sets.com/ja/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/ Wed, 17 Jun 2026 15:29:19 +0800 http://ir-heat-sets.com/ja/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/ <p><img src="http://ir-heat-sets.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="ウェーハレベルパッケージ用ヒーター"></p> <p>FO-WLPプロセスにおいては、再配布層が重要な役割を果たします。チップ<a href="https://o-yate.net">全体</a>でわずか0.3℃の温度変動でも、応力が生じやすくなり、金型が歪んでしまい、結果として歩留まりが悪くなります。したがって、熱バランスを管理できるヒーターが必要です。単純明快に、推測に頼らずに。</p> <p><strong>実際に重要なのは何か</strong> 私たちは、半導体製造に適した制御性能を持つファンアウトウェーハレベルパッケージ用ヒーターを開発しました。このヒーターにより、基板全体で±0.1℃の<a href="https://henruite.com">均一性</a>が保たれ、エポキシ樹脂の硬化処理やフォトレジストの<a href="https://goldisgood.com">加熱</a>処理の際に、各チップが同じ温度環境下に置かれます。ホットゾーンはクリーンルーム基準のクラス1からクラス100まで対応しており、粒子数を減らすために表面や材料も慎重に選定されています。粒子の発生を完全に防ぐことはスローガンではなく、チャンバーの構造やシール部品、排気経路によって実現されています。このシステムは24時間365<a href="https://o-yate.com">日稼働</a>し、再現性が高く、短サイクルのFO-WLPプロセスにも対応できます。</p>