Lampada a infrarossi per asciugatura di wafer di silicio

Wed, 03 Jun 2026 12:12:13 +0800

Guarda un wafer uscire dall’ultimo risciacquo. Se la fase di asciugatura non è eseguita correttamente, si formano aloni d’acqua, gli strati di fotoresist iniziano a delaminarsi e la resa ne risente. Abbiamo progettato la nostra lampada a infrarossi per l’asciugatura dei wafer di silicio per eliminare questa variabile.

Cosa conta sotto il cofano
Utilizza infrarossi a onda corta per trasferire energia direttamente nel film e nel substrato. Nell’area di cottura, l’uniformità a livello wafer si mantiene entro ±0,1°C, quindi le temperature critiche—soft bake, hard bake e post-bake—rimangono ripetibili, ciclo dopo ciclo.
È compatibile con le cleanroom da Classe 1 a Classe 100. L’involucro in quarzo e le componenti a bassa emissione di gas impediscono l’aumento del conteggio particellare. La potenza erogata resta stabile oltre 5.000 ore, con una deriva di intensità inferiore al 5%, supportando operazioni continuative 24/7.

Silicio on Infrared Heating Lamp Sets

Lampada a infrarossi per asciugatura di wafer di silicio