Lampada per essiccatore di wafer DNS (Screen)

Sat, 27 Jun 2026 04:35:31 +0800

Durante il processo di litografia, il fotoresist non tollera alcun tipo di deviazione nelle condizioni termiche. Anche una piccola variazione nella temperatura può compromettere il corretto funzionamento del sistema di controllo, costringendo così l’operatore a cercare i difetti su tutto il pezzo da lavorare. Abbiamo quindi progettato la lampada per l’essiccazione dei wafer DNS, al fine di eliminare tali variazioni termiche.

Cosa è importante dal punto di vista tecnico
Si ottiene una uniformità della temperatura di ±0,1°C su tutto il piano del wafer; in questo modo, ogni area esposta alla luce riceve lo stesso trattamento termico. La compatibilità con ambienti cleanroom non è solo una caratteristica secondaria: gli ambienti di classe 1–100 mantengono livelli di particelle sotto controllo, poiché l’apparecchiatura non genera emissioni di particelle durante i processi di riscaldamento. I raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda riscaldano direttamente il substrato, permettendo così un riscaldamento rapido e una riduzione dell’energia consumata in modalità di standby. L’emettitore, incapsulato in quarzo, mantiene costante la temperatura richiesta per il trattamento del fotoresist, mentre il circuito di controllo assicura che i valori di regolazione rimangano stabili anche dopo molteplici cicli di lavoro.

DNS on Infrared Heating Lamp Sets

Lampada per essiccatore di wafer DNS (Screen)