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		<title>Asciugabiancheria on Infrared Heating Lamp Sets</title>
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		<description>Recent content in Asciugabiancheria on Infrared Heating Lamp Sets</description>
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				<title>Regolatore per asciugatore a infrarossi digitale</title>
				<link>http://ir-heat-sets.com/it/posts/digital-infrared-dryer-controller/</link>
				<pubDate>Thu, 09 Jul 2026 05:18:06 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Regolatore per asciugatore a infrarossi digitale&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Controllore per essiccatore a infrarossi digitale: distribuire il calore dove è necessario, in modo sicuro&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Siamo onesti: nella produzione di semiconduttori, il calore indesiderato non è semplicemente un fastidio. È davvero un problema serio. Può rappresentare un pericolo per la sicurezza e può causare interruzioni di funzionamento costose.&lt;br&gt;&#xA;Abbiamo creato questo controllore per essiccatore a infrarossi digitale proprio per risolvere questi problemi. Si tratta di un dispositivo progettato per fornire calore intenso con precisione millimetrica, in modo che venga riscaldato soltanto l’oggetto desiderato, senza danneggiare gli altri componenti dell’apparecchiatura.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Lampada per essiccatore di wafer DNS (Screen)</title>
				<link>http://ir-heat-sets.com/it/posts/dns-screen-wafer-dryer-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:35:31 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lampada per essiccatore di wafer DNS (Screen)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Durante il processo di litografia, il fotoresist non &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;tollera&lt;/a&gt; alcun tipo di deviazione nelle condizioni termiche. Anche una piccola variazione nella temperatura può compromettere il corretto funzionamento del sistema di &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;controllo&lt;/a&gt;, costringendo così l’operatore a cercare i difetti su tutto il pezzo da lavorare. Abbiamo quindi progettato la lampada per l’essiccazione dei wafer DNS, al fine di eliminare tali variazioni termiche.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Cosa è importante dal punto di vista tecnico&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Si ottiene una uniformità della temperatura di ±0,1°C su tutto il piano del wafer; in questo modo, ogni area esposta alla luce riceve lo stesso trattamento termico. La compatibilità con ambienti cleanroom non è solo una caratteristica secondaria: gli ambienti di classe 1–100 mantengono livelli di particelle sotto controllo, poiché l’apparecchiatura non genera emissioni di particelle durante i processi di riscaldamento. I raggi infrarossi a breve lunghezza d’onda riscaldano direttamente il substrato, permettendo così un riscaldamento rapido e una riduzione dell’energia consumata in modalità di standby. L’emettitore, incapsulato in quarzo, mantiene costante la temperatura richiesta per il trattamento del fotoresist, mentre il circuito di controllo assicura che i valori di regolazione rimangano stabili anche dopo molteplici cicli di lavoro.&lt;/p&gt;</description>
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