http://ir-heat-sets.com/id/tags/penggemar/ Recent content in Penggemar on Infrared Heating Lamp Sets Hugo id Mon, 29 Jun 2026 06:40:56 +0800 http://ir-heat-sets.com/id/posts/industrial-fan-heater/ Mon, 29 Jun 2026 06:40:56 +0800 http://ir-heat-sets.com/id/posts/industrial-fan-heater/ <p><img src="http://ir-heat-sets.com/images/11970fb4a5ff60f76c8d4043c44d4f00.png" alt="Pemanas berbentuk kipas industri"></p> <p>Masuklah ke ruang spa, dan hal pertama yang dirasakan oleh pelanggan akan menentukan suasana di sana. Jika suhu udara terlalu dingin, otot-otot akan menjadi kaku, sehingga proses perawatan pun tidak akan efektif. Itulah mengapa kami menciptakan pemanas berbentuk kipas ini untuk mengatasi masalah tersebut. Kami menggabungkan elemen inframerah kuarsa dengan kipas berkecepatan rendah, sehingga panas dapat tersebar secara merata tanpa adanya hembusan udara yang kencang yang bisa merusak suasana.</p> <p><strong>Apa yang penting dalam fungsi pemanas ini?</strong> Pemanas ini menggunakan tabung kuarsa yang menghasilkan panas inframerah. Panas tersebut langsung sampai ke tubuh dan permukaan benda-benda di sekitarnya, bukan hanya ke udara saja. Daya yang dihasilkan berkisar antara 1,5–3 kW, sehingga cocok digunakan pada sumber listrik standar 110–240 V. Aliran udara yang lembut juga membantu mencegah terbentuknya area panas atau dingin. Dengan demikian, suhu tetap stabil, dan pemanas ini dapat digunakan dalam jangka waktu yang lama tanpa berlebihan panas.</p> http://ir-heat-sets.com/id/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/ Wed, 17 Jun 2026 15:29:20 +0800 http://ir-heat-sets.com/id/posts/fan-out-wafer-level-packaging-heater/ <p><img src="http://ir-heat-sets.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png" alt="Pemanas untuk pengemasan pada tingkat wafer"></p> <p>Pada proses FO-WLP, lapisan redistribusi merupakan faktor penentu kecepatan prosesnya. Perubahan suhu sebesar 0,3°C saja sudah cukup untuk mengubah tekanan yang bekerja pada substrat, menyebabkan deformasi pada cetakan, dan berdampak negatif pada tingkat produksi. Anda membutuhkan pemanas yang mampu mengontrol suhu secara akurat—tanpa perlu menebak-nebak.</p> <p><strong>Apa yang sebenarnya penting di balik semuanya?</strong> Kami merancang pemanas ini untuk digunakan dalam proses pengemasan level wafer pada semikonduktor. Pemanas ini mampu menjaga keseragaman suhu hingga ±0,1°C di seluruh permukaan substrat, sehingga setiap chip mendapatkan kondisi termal yang serupa selama proses pengeringan bahan epoksi, pemrosesan fotoresist, dan proses lainnya. Zona panas tersebut cocok digunakan di ruang bersih dengan tingkatan kelas 1 hingga 100. Permukaan dan bahan-bahan yang digunakan dirancang sedemikian rupa agar jumlah partikel di dalamnya tetap rendah. Tidak ada partikel yang terbentuk sama sekali—hal ini ditentukan oleh desain chamber, sambungan antar komponen, serta jalur pengeluaran udara. Sistem ini dapat beroperasi 24/7 dengan tingkat repetibilitas yang tinggi, dan respons termalnya disesuaikan agar sesuai dengan proses FO-WLP yang memiliki siklus pendek.</p>