IR on Infrared Heating Lamp Sets

Sensor IR berkeakuratan tinggi untuk wafer

Mon, 27 Jul 2026 08:19:32 +0800

Mengapa Kita Menguji Setiap Sensor IR Secara Mendetail

Saat memproses silikon, risikonya sangat tinggi. Sedikit saja kebocoran listrik, maka seluruh produk yang dihasilkan akan menjadi limbah. Itulah sebabnya kita tidak melakukan pengujian secara acak. Kita tidak hanya memeriksa setiap sepuluh sensor saja, lalu berharap semuanya baik-baik saja. Sebelum sensor tersebut digunakan, kita harus mengujinya terlebih dahulu menggunakan metode HiPot dan tes resistansi isolasi.

Membuat Kerusakan Secara Sengaja

Yang perlu diketahui adalah bahwa kita sengaja menekan kapasitas isolasi sensor hingga batas maksimalnya. Tujuannya adalah untuk menemukan titik-titik lemahnya. Dengan memberikan tegangan yang jauh melebihi batas yang biasa digunakan dalam operasi normal, kita dapat membuat cacat-cacat yang ada muncul ke permukaan. Kita mencari hal-hal yang tidak bisa dilihat dengan mata telanjang—seperti gelembung udara di dalam bahan epoxy atau retakan kecil pada permukaan keramik. Jika sensor tersebut berpotensi menyebabkan arus listrik berlebih, kita lebih memilih agar hal itu terjadi di laboratorium kami, daripada di dalam ruang vakum milik klien.

Reflektor aluminium untuk lampu IR

Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800

Di area produksi, Anda tidak bisa bersembunyi di balik toleransi yang ada. Perbedaan suhu sebesar setengah derajat pada permukaan panas akan menyebabkan variasi ketebalan garis-pada wafer, dan hal ini tentu akan merugikan proses produksi. Karena waktu pemrosesan dilakukan dalam satuan detik dan derajat, maka tidak ada ruang untuk kesalahan. Komponen lampu IR harus menghasilkan panas yang stabil dan konsisten—jika tidak, proses litografi akan gagal.

Yang penting dari segi teknis adalah penggunaan reflektor aluminium untuk lampu IR. Reflektor ini dirancang agar suhu di seluruh permukaan wafer tetap stabil, yaitu dalam rentang ±0,1°C. Dengan demikian, profil energi yang dihasilkan sesuai dengan apa yang diharapkan oleh proses produksi. Permukaan reflektor juga diproses sedemikian rupa agar mengurangi emisi gas dan partikel, sehingga kualitas ruang bersih tetap terjaga. Rekabilitas proses dicapai melalui geometri reflektor yang stabil serta emisivitas yang konsisten. Dengan demikian, suhu akan tetap konstan, sesuai dengan spesifikasi yang ditentukan.

Ujung kap keramik untuk emitor IR

Sun, 21 Jun 2026 06:00:29 +0800

Di lantai pabrik pembuatan wafer, sedikit saja perubahan suhu sebesar sepersekian derajat pun dapat merusak kontrol ketebalan lapisan fotoresist dan kualitas hasil produksi. Ketidakpastian termal sama sekali tidak boleh diterima. Kapak keramik yang terdapat pada komponen pemancar IR berfungsi untuk menghilangkan ketidakpastian tersebut, sehingga medan termal tetap stabil di tempat yang seharusnya: yaitu pada permukaan wafer.

Apa yang benar-benar penting? Kapak keramik berfungsi sebagai antarmuka termal sekaligus penyangga mekanis yang menjaga agar komponen pemancar IR tetap berada dalam posisi yang tepat dan konsisten. Sifat kapak keramik yang memiliki emisi gas yang rendah, stabilitas termal yang tinggi, serta struktur yang kuat memungkinkan terciptanya keseragaman hingga sub-milimeter di seluruh permukaan wafer. Selain itu, profil suhu yang stabil juga memastikan kualitas produk yang konsisten dari batch ke batch.