ऊर्जा on Infrared Heating Lamp Sets

फैब ड्रायिंग हेतु ऊर्जा ऑडिट

Wed, 15 Jul 2026 09:49:00 +0800

देखिए, एक उत्पादन लाइन में, हीटिंग तत्व हमेशा सबसे पहले ही खराब हो जाते हैं। और जब ऐसा होता है, तो यह सिर्फ “बल्ब खराब होने” जैसी समस्या नहीं होती। थोड़ी सी भी चूक के कारण पूरा उपकरण ही नष्ट हो सकता है… या फिर ऑपरेटर को खतरा पहुँच सकता है।
इसीलिए हम “यादृच्छिक नमूनाओं” का उपयोग नहीं करते। हम अपनी फैक्ट्री से निकलने वाले हर एक बल्ब की जाँच करते हैं। हम ऐसी समस्याओं को यहीं ही पकड़ना चाहते हैं, ताकि वे आपके उपकरणों में न आ सकें।

ऊर्जा कुशल वेफर हीटर

Fri, 10 Jul 2026 12:57:22 +0800

फैक्ट्रियों में कार्बन उत्सर्जन कम करना: आईआर हीटिंग क्यों कारगर है?
वर्तमान में हर फैक्ट्री को कार्बन-तटस्थता के लक्ष्यों को पूरा करने हेतु कठिनाइयों का सामना करना पड़ रहा है। इसके कारण बहुत दबाव पड़ रहा है। समस्या का एक बड़ा कारण तो ऊर्जा का अपव्यय है – खासकर वेफरों को गर्म करने एवं उन्हें सूखाने की प्रक्रिया में।

हम में से अधिकांश लोग अभी भी पुराने तरह के रेजिस्टिव हीटरों का ही उपयोग कर रहे हैं… लेकिन वास्तव में वे अक्षम हैं। हम लोगों को शॉर्ट-वेव आईआर लैंपों की ओर धकेल रहे हैं… क्योंकि ये अलग तरीके से काम करते हैं। ये लैंप कमरे में मौजूद सारी हवा को गर्म करने के बजाय सीधे वेफर की सतह को ही गर्म करते हैं।

ऊर्जा बचत वाले सेमीकंडक्टर हीटिंग सिस्टम

Mon, 22 Jun 2026 23:16:33 +0800

फैब फ्लोर पर, आपको तो पता ही है कि क्या करना है। थोड़ा सा भी तापमान-परिवर्तन, महत्वपूर्ण आयामों को प्रभावित कर सकता है। अत्यधिक तापमान से न केवल ऊर्जा बर्बाद होती है, बल्कि फोटोरेसिस्ट भी नष्ट हो जाता है। आवश्यकता ऐसे तापमान की है, जिस पर हर बार, हर उपकरण के साथ, एवं हर बैच के दौरान भरोसा किया जा सके।
हमने हीटिंग मॉड्यूलों को शॉर्ट-वेव इन्फ्रारेड तकनीक के आधार पर बनाया है। इससे तेज़ प्रतिक्रिया एवं सटीक नियंत्रण संभव होता है। इसके कारण वेफर की सतह पर तापमान ±0.1°C के भीतर ही रहता है; इससे हर बार का तापन प्रक्रिया निर्धारित सीमाओं के भीतर ही होती है।
यह प्लेटफॉर्म क्लास 1–100 के क्लीनरूमों में भी काम कर सकती है, एवं इसमें कोई कण भी नहीं उत्पन्न होता। यह 24/7 काम करती है, बिना किसी अप्रत्याशित रुकावट के। ऊर्जा-उपयोग कम हो जाता है, क्योंकि तापमान आवश्यकता के अनुसार ही दिया जाता है; इससे कोई अतिरिक्त ऊर्जा बर्बाद नहीं होती।
लिथोग्राफी में, नियमित तापन प्रक्रिया से फोटोरेसिस्ट की मोटाई स्थिर रहती है, एवं किनारों पर कोई दोष नहीं रहता। हार्ड बेकिंग में भी तापमान नियंत्रित रहता है, जिससे कम अपशिष्ट एवं कम पुनर्कार्य होता है।
यही प्लेटफॉर्म वेफरों की सफाई एवं सुखाने की प्रक्रियाओं को भी संभाल सकती है; इससे कोई संदूषण नहीं होता, एवं कणों की संख्या भी नियंत्रित रहती है। इससे प्रसंस्करण समय कम हो जाता है, उत्पादन दर बढ़ जाती है, एवं प्रति वेफर खर्च होने वाली ऊर्जा भी कम हो जाती है… बिना थर्मल सटीकता को कम किए।
इंस्टॉलेशन के लिए, उपकरण के वोल्टेज एवं कनेक्टर इंटरफेस को मैच करना होता है; इसके बाद क्वालिफिकेशन के दौरान चक के साथ थर्मल कनेक्शन की जाँच की जाती है। यह मॉड्यूल छोटा है, लेकिन हवा के प्रवाह एवं रखरखाव हेतु पर्याप्त जगह आवश्यक है।
फोटोरेसिस्ट के लिए आवश्यक तापमान-सेटिंगों को ठीक करने हेतु थोड़ा समय लगेगा। एक बार सेट हो जाने के बाद, यह प्रक्रिया हर बार वैसी ही चलती रहेगी।