Lampe de préchauffage infrarouge

Fri, 05 Jun 2026 03:52:31 +0800

Sur le sol de lithographie, l’uniformité de la température de cuisson douce n’est pas une préférence—c’est une spécification. Un écart de 1°C sur le wafer peut déplacer des dimensions critiques, détruire des profils de paroi latérale et réduire le rendement d’un lot à l’autre. Nous avons conçu nos lampes de cuisson douce infrarouges pour éliminer cette variabilité.

Le cœur est un chauffage radiant infrarouge proche (NIR), réglé pour transférer de l’énergie directement dans le photoresist sans cuire les films en dessous. L’uniformité au niveau du wafer reste dans une plage de ±0,1°C sur la surface de cuisson, et la répétabilité se maintient d’un lot à l’autre, d’un poste à l’autre. L’assemblage de la lampe est prêt pour salle blanche, avec une génération de particules nulle vérifiée jusqu’aux environnements de Classe 1–100. La distribution de puissance reste stable, dérivant de moins de 5 % après plus de 5 000 heures, et le profil thermique reste répétable même lorsque vous échangez les lampes.

Mou; Doux on Infrared Heating Lamp Sets

Lampe de préchauffage infrarouge