Lampe sècheur de wafer DNS (Écran)

Sat, 27 Jun 2026 04:35:31 +0800

Sur la ligne de production, le photorésistant ne tolère pas les écarts de température. Même une légère variation dans la température peut perturber le contrôle de la cuisson du photorésistant, ce qui entraîne des défauts un peu partout sur la surface du wafer. Nous avons donc conçu une lampe de séchage spéciale pour éliminer cette variabilité thermique.

Ce qui est important en termes de performance On obtient une uniformité de température de ±0,1°C sur toute la surface du wafer. Ainsi, chaque zone exposée subit les mêmes conditions thermiques. La compatibilité avec les chambres propres n’est pas qu’une simple promesse : les espaces de classe 1–100 restent exempts de particules, car l’appareil ne génère pas de particules pendant les phases de chauffage et de refroidissement. Les rayons infrarouges à courte longueur d’onde chauffent directement le substrat, ce qui permet un réchauffement rapide et une consommation d’énergie réduite. L’émetteur encapsulé dans du quartz maintient une température constante, conformément aux paramètres requis pour le traitement du photorésistant. Le système de contrôle assure également que les paramètres restent constants d’une série à l’autre.

DNS on Infrared Heating Lamp Sets

Lampe sècheur de wafer DNS (Écran)