http://ir-heat-sets.com/fa/tags/equipment/ Recent content in Equipment on Infrared Heating Lamp Sets Hugo fa Sun, 07 Jun 2026 03:38:59 +0800 http://ir-heat-sets.com/fa/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ Sun, 07 Jun 2026 03:38:59 +0800 http://ir-heat-sets.com/fa/posts/wafer-fabrication-line-equipment/ <p><img src="http://ir-heat-sets.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png" alt="تجهیزات خط ساخت ویفر"></p> <p>در محیط تولید، پخت فوتورزیست صرفاً مرحله‌ای دمایی نیست. بلکه یک پارامتر تلرانس است. انحراف ۲ درجه سانتی‌گراد در دما باعث تغییر بایاس ابعاد بحرانی می‌شود و وجود چند ذره، تعداد زیادی از دی‌های خوب را از بین می‌برد. شما به کنترل حرارتی نیاز دارید که به‌عنوان یک پارامتر واقعی فرایند عمل کند، نه یک تنظیمات بعدی که به ابزار اضافه شده است.</p> <h2 id="نکات-مهم-در-عملکرد-داخلی">نکات مهم در عملکرد داخلی</h2> <p>سیستم‌های حرارتی در سطح ویفر را بر اساس یکنواختی قابل تکرار و اجرای پاکیزه طراحی می‌کنیم. معماری‌های حرارتی مبتنی بر هالوژن و NIR کنترل دقیقی در سراسر صفحه ویفر حفظ می‌کنند و دمای ±۰.۱°C را در طول فیلم در طول مرحله‌های سافت بیک و هارد بیک تضمین می‌کنند. قطعات کوارتز و مجموعه‌های تقویت‌شده با الیاف کربن باعث کاهش گازدهی و حفظ پایداری هندسه ناحیه داغ می‌شوند. این موضوع به فعال‌سازی یکنواخت شیمی فوتورزیست، کنترل قابل پیش‌بینی لبه فیلم، گذار شیشه‌ای پایدار و انتخاب‌پذیری تکرارپذیر در اچ کمک می‌کند. حلقه‌های کنترل برای رسیدن سریع به پایداری با حداقل عبور از مقدار هدف تنظیم شده‌اند تا بودجه حرارتی کل دسته را نسوزانید.</p>