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		<title>Dragador on Infrared Heating Lamp Sets</title>
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		<description>Recent content in Dragador on Infrared Heating Lamp Sets</description>
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				<title>Controlador de secador infrarrojo digital</title>
				<link>http://ir-heat-sets.com/es/posts/digital-infrared-dryer-controller/</link>
				<pubDate>Thu, 09 Jul 2026 05:18:06 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Controlador de secador infrarrojo digital&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Controlador de secador por infrarrojos digitales: Dirigir el calor donde realmente se necesita, de forma segura&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Seamos honestos: en la fabricación de semiconductores, el calor excesivo no es solo un inconveniente. Es un problema real. Puede representar un peligro para la seguridad y causar tiempos de inactividad costosos.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Hemos creado este controlador de secador por infrarrojos digitales para solucionar ese problema. Se trata de aplicar calor intenso con precisión, de modo que solo se caliente el área objetivo, sin dañar los &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;equipos&lt;/a&gt; circundantes.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Lámpara secadora de obleas DNS (Screen)</title>
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				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 04:35:31 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Lámpara secadora de obleas DNS (Screen)&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;En la línea de producción, el fotolito no perdona ningún tipo de desviación en las condiciones térmicas. Una temperatura ligeramente incorrecta puede alterar el control del proceso de fotolitografía, lo que obliga a buscar defectos en toda la superficie del wafer. Por eso diseñamos la lámpara para secado de obleas DNS, con el fin de reducir esa variabilidad térmica.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Lo que realmente importa&lt;/strong&gt;&#xA;Se logra una uniformidad de temperatura de ±0.1°C en toda la superficie del wafer, de modo que cada área expuesta recibe las mismas condiciones térmicas. La compatibilidad con ambientes de sala limpia no es solo un aspecto superficial: los espacios de clase 1–100 mantienen un nivel de partículas bajo control, ya que el equipo no genera una gran cantidad de partículas durante los procesos de calentamiento y enfriamiento. El calor de onda corta infrarroja calienta directamente el sustrato, lo que permite un calentamiento rápido y reduce el consumo energético en estado de inactividad. El emisor, encapsulado en cuarzo, mantiene una temperatura constante durante los procesos de fotolitografía, y el sistema de control garantiza que los valores de ajuste se mantengan constantes de uno a otro ciclo de trabajo.&lt;/p&gt;</description>
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