Lámpara secadora de obleas DNS (Screen)

Sat, 27 Jun 2026 04:35:31 +0800

En la línea de producción, el fotolito no perdona ningún tipo de desviación en las condiciones térmicas. Una temperatura ligeramente incorrecta puede alterar el control del proceso de fotolitografía, lo que obliga a buscar defectos en toda la superficie del wafer. Por eso diseñamos la lámpara para secado de obleas DNS, con el fin de reducir esa variabilidad térmica.

Lo que realmente importa Se logra una uniformidad de temperatura de ±0.1°C en toda la superficie del wafer, de modo que cada área expuesta recibe las mismas condiciones térmicas. La compatibilidad con ambientes de sala limpia no es solo un aspecto superficial: los espacios de clase 1–100 mantienen un nivel de partículas bajo control, ya que el equipo no genera una gran cantidad de partículas durante los procesos de calentamiento y enfriamiento. El calor de onda corta infrarroja calienta directamente el sustrato, lo que permite un calentamiento rápido y reduce el consumo energético en estado de inactividad. El emisor, encapsulado en cuarzo, mantiene una temperatura constante durante los procesos de fotolitografía, y el sistema de control garantiza que los valores de ajuste se mantengan constantes de uno a otro ciclo de trabajo.

DNS on Infrared Heating Lamp Sets

Lámpara secadora de obleas DNS (Screen)