IR on Infrared Heating Lamp Sets

Präziser IR Sensor für Wafern

Mon, 27 Jul 2026 08:19:16 +0800

Warum wir jeden einzelnen IR-Sensor auf seine Belastbarkeit prüfen
Beim Umgang mit Silizium sind die Risiken extrem hoch. Ein kleiner elektrischer Leck? Das bedeutet das Ende der ganzen Charge – sie ist dann unbrauchbar. Deshalb führen wir keine „Stichprobenprüfungen“ durch. Wir überprüfen nicht nur alle zehnten Sensoren und hoffen auf das Beste. Stattdessen unterziehen wir jeden einzelnen Sensor vor dem Verlassen unseres Labors einer Prüfung auf Hochspannung sowie auf die Isolationsfestigkeit.

Absichtliches Beschädigen der Sensoren
Wir bringen die Isolierung absichtlich an ihre Grenzen. So können wir die Schwachstellen erkennen. Indem wir die Spannung auf Werte erhöhen, die in der normalen Betriebsweise niemals erreicht werden, zwingen wir die versteckten Defekte zum Vorschein. Wir suchen nach Dingen, die man nicht sehen kann – wie mikroskopisch kleine Luftblasen im Epoxid oder feine Risse im Keramikmaterial. Wenn es zu einem Kurzschluss kommen soll, dann soll das hier passieren. Ich würde lieber einen Sensor in meinem Labor zerstören, als dass er in Ihrer Vakuumkammer einen Kurzschluss verursacht.

Aluminium Reflektor für IR Lampe

Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800

In der Fertigungshalle kann man sich nicht hinter Toleranzen verstecken. Eine Abweichung von einem halben Grad auf der Heizplatte führt zu Schwankungen in der Linienbreite – und das bedeutet verlorene Wafer. Wenn die Zeiten für das Weiche- und Harte-Baking in Sekunden und Grad gemessen werden, gibt es keinen Spielraum für Fehler. Die IR-Lampe muss eine stabile und wiederholbare Wärmeabgabe bieten – sonst arbeitet die Lithografie-Anlage gegen die chemischen Prozesse statt diese zu unterstützen.

Was technisch wichtig ist: Unser Aluminiumreflektor für IR-Lampen basiert auf den thermischen Eigenschaften von Halbleitern. Er sorgt dafür, dass die Homogenität auf der Waferoberfläche bei ±0,1°C bleibt – dadurch stimmt das Energieprofil mit den Anforderungen des Prozesses überein. Die Oberfläche wird poliert und behandelt, um Ausgasungen und Partikel zu reduzieren. So bleibt die Reinraumqualität auf einem hohen Niveau – ohne Zufallseffekte. Die Wiederholgenauigkeit wird durch eine stabile Reflektorgeometrie sowie eine konstante Emissivität gewährleistet. Dadurch bleibt die Temperatur immer dort, wo sie sein soll.

Keramisches Endkappe für IR Emitter

Sun, 21 Jun 2026 06:00:29 +0800

Auf der Wafer-Oberfläche kann bereits eine Abweichung von nur einem Bruchteil eines Grades dazu führen, dass die Kontrolle über die Dicke der Schicht sowie die Qualität des Ergebnisses beeinträchtigt wird. Thermische Unsicherheiten sind einfach inakzeptabel. Die keramischen Endkappen an den IR-Emittern dienen dazu, diese Unsicherheiten zu beseitigen und das thermische Feld stabil zu halten – genau dort, wo es benötigt wird: auf dem Wafer.