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		<title>Heilen on Infrared Heating Lamp Sets</title>
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				<title>Reflektor für Wafer Aushärtungslampe</title>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heat-sets.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;Reflektor für Wafer Aushärtungslampe&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Wir haben diesen Reflektor für Lampen zur Aushärtung von Halbleiterwafern entwickelt – um ein echtes Problem in der Produktion zu lösen: Wie kann man maximale Wärmeenergie auf den Wafer übertragen, ohne dass die gesamte Maschine zu einer Art Schmelzofen wird? Die Idee ist einfach: Die Wärme muss genau dorthin gelenkt werden, wo sie benötigt wird.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Leistung, Spannung und Geometrie: Das wahre Trio&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Beim Infrarot-Aushärten geht es um Geschwindigkeit und Präzision. Wir optimieren das Lampensystem so, dass möglichst viel Energie an einem bestimmten Punkt konzentriert wird. Die Spannung und Leistung werden so gewählt, dass die gewünschte Temperatur schnell erreicht wird – dadurch wird die Bearbeitungszeit verkürzt und die Effizienz erhöht. Zudem passt die physische Länge des Reflektors zum Prozessablauf – dadurch wird die Wärme nur auf den Wafer abgegeben und bleibt dort. Es handelt sich dabei um ein Gleichgewichtsproblem. Wenn so viel Wärme erzeugt wird, muss das Kühlsystem der Maschine dem standhalten – sonst steigt die Umgebungstemperatur an.&lt;/p&gt;</description>
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