Individueller Infrarotheizer für Wafer

Thu, 04 Jun 2026 03:20:22 +0800

Out on the litho floor, a 0.5°C drift in the photoresist bake isn’t a “small error.” It’s a scrapped wafer, a mask layer down the drain, and a schedule that slips. Thermal budgets at wafer level are exacting, and repeatability isn’t optional. That’s why we built a custom infrared heater for wafer processing around that reality—because protecting yield starts with temperature control you can measure, not cross your fingers over.
What matters under the hood
Die Einheit hält eine Gleichmäßigkeit von ±0,1°C im stationären Betrieb über das Wafer hinweg, indem ein kurzwelliger Infrarotstrahler verwendet wird, der auf das Absorptionsprofil von Photoresist und Substrat abgestimmt ist. Der Heizer ist für Reinraumklassen 1–100 ausgelegt: Quarzkomponenten und eine partikelkontrollierte Montage. Während der Backzyklen entsteht keine Partikelbildung, was durch in-situ Partikelmessung nachgewiesen wird. Die Regelstrecke erholt sich schnell – innerhalb von Sekunden nach Türöffnungen – und die Temperaturwiederholgenauigkeit bleibt über Lose, Schichten und Anlagen hinweg stabil.
Why it behaves in production
Beim Softbake und Hardbake zeigt sich der Effekt sofort: engere Kontrolle der kritischen Dimensionen, bessere Profilsymmetrie und weniger Nacharbeit. Das reinraumkompatible Design verhindert Kontaminationen im Prozessraum, was zur Stabilität der Ausbeute bei fortgeschrittenen Technologieknoten beiträgt. Der Energieverbrauch ist dank des Infrarotspektrums und der niedrigen thermischen Masse geringer – geringere Betriebskosten bei gleichbleibenden Anfahrzeiten. Die Einheit lässt sich problemlos in bestehende Track-Systeme mit standardisierten mechanischen und elektrischen Schnittstellen integrieren, sodass keine erneute Qualifizierung der gesamten Linie erforderlich ist.
What you need to get right
Die Installation hängt maßgeblich vom Abluftweg und der Schirmausrichtung ab – Fehler hier führen zu Verlust der Gleichmäßigkeit und Partikelperformance. Der Heizer ist empfindlich gegenüber der Sauberkeit der Reflektoren, deshalb sollte das empfohlene preventive Wartungsintervall eingehalten werden, um Emissionsgrad und Temperaturverteilung konstant zu halten. In Kombination mit dem passenden Backrezept reduziert die Einheit thermische Schwankungen und ermöglicht engere Prozessfenster, Schicht für Schicht.

Benutzerdefiniert on Infrared Heating Lamp Sets

Individueller Infrarotheizer für Wafer