Aluminium Reflektor für IR Lampe

Thu, 25 Jun 2026 04:29:37 +0800

In der Fertigungshalle kann man sich nicht hinter Toleranzen verstecken. Eine Abweichung von einem halben Grad auf der Heizplatte führt zu Schwankungen in der Linienbreite – und das bedeutet verlorene Wafer. Wenn die Zeiten für das Weiche- und Harte-Baking in Sekunden und Grad gemessen werden, gibt es keinen Spielraum für Fehler. Die IR-Lampe muss eine stabile und wiederholbare Wärmeabgabe bieten – sonst arbeitet die Lithografie-Anlage gegen die chemischen Prozesse statt diese zu unterstützen.

Was technisch wichtig ist: Unser Aluminiumreflektor für IR-Lampen basiert auf den thermischen Eigenschaften von Halbleitern. Er sorgt dafür, dass die Homogenität auf der Waferoberfläche bei ±0,1°C bleibt – dadurch stimmt das Energieprofil mit den Anforderungen des Prozesses überein. Die Oberfläche wird poliert und behandelt, um Ausgasungen und Partikel zu reduzieren. So bleibt die Reinraumqualität auf einem hohen Niveau – ohne Zufallseffekte. Die Wiederholgenauigkeit wird durch eine stabile Reflektorgeometrie sowie eine konstante Emissivität gewährleistet. Dadurch bleibt die Temperatur immer dort, wo sie sein soll.

Aluminium on Infrared Heating Lamp Sets

Aluminium Reflektor für IR Lampe