Op de lithografievloer is de uniformiteit van de zachte bakt temperatuur geen voorkeur—het is een specificatie. Een variatie van 1°C over de wafer kan kritische afmetingen veranderen, zijwandprofielen verpesten en de opbrengst per lot verminderen, lot na lot. We hebben onze infrarode zachte baklampen ontwikkeld om die variabiliteit uit de vergelijking te halen.
De kern is near-infrarood (NIR) stralingsverwarming, afgestemd om energie rechtstreeks in het fotoresist te dumpen zonder de films eronder te verhitten. De uniformiteit op wafer-niveau blijft binnen ±0,1°C over het bakoppervlak, en de herhaalbaarheid blijft goed, lot na lot, shift na shift. De lampassemblage is klaar voor schone ruimten, met nul deeltjesgeneratie die is geverifieerd tot Class 1–100 omgevingen. De energievoorziening blijft stabiel, met een afwijking van minder dan 5% na meer dan 5.000 uur, en het thermische profiel blijft herhaalbaar, zelfs wanneer je lampen verwisselt.
Hier is waarom dit belangrijk is in de productie: de zachte bak stelt het oplosmiddelverwijderingsprofiel in dat de vloeistofstroom van het fotoresist, hechting en de belichtingstolerantie die je vervolgens krijgt, bepaalt. Strikte thermische controle vermindert herwerk, verkort kwalificatietijd en vermindert het energieverbruik door de verblijftijd en temperatuurovershoot te minimaliseren. Je herwint procesmarges en voorkomt ongeplande stops veroorzaakt door temperatuuruitstapingen.
Installatie komt neer op het nauwkeurig afstemmen van de optische uitlijning en de afvoer om de deeltjes onder controle te houden. Stem de lamp af op de kamer geometrie en de thermische massa van de drager—anders kunnen gradienten van rand naar centrum weer terugkomen, zelfs met de inherente uniformiteit van de lamp. Specificeer het juiste wattage, voltage en connectorinterface voor jouw platform, en voer een site-acceptatietest uit die de temperatuur over de gehele bakzone in kaart brengt, niet alleen het middelpunt.