Op de productieafdeling is het proces bekend: zelfs een klein verschil van maar een halve graad kan tot grote afwijkingen leiden in de belangrijkste dimensies. Een te hoge temperatuur veroorzaakt niet alleen energieverlies, maar ook schade aan de fotorezistent. Wat nodig is, is een constante temperatuur, die telkens weer kan worden geregeld, ongeacht het apparaat of de serie waarin wordt gewerkt.
Wij hebben de verwarmingsmodules ontworpen op basis van kortegolf-infraroodlicht. Dit zorgt voor een snelle reactietijd en nauwkeurige controle. Hierdoor blijft de temperatuur over het hele oppervlak van de wafer binnen ±0,1°C, zodat alle verwerkingsprocessen zich binnen de gewenste grenzen bevinden.
De platformen zijn geschikt voor ruimtes met een zuiverheidsklasse van 1–100. Ze zijn zo ontworpen dat er geen deeltjes worden gegenereerd. Ze werken 24/7 zonder onverwachte stilstand. De energieverbruik wordt verminderd, omdat de warmte op vraag wordt geleverd, met minimale verliezen en geen tijdverlies door opwarmtijd.
Bij lithografie zorgt een constante temperatuur voor een stabiele dikte van de fotorezistent, waardoor er minder afval en herwerking nodig is. Dezelfde platformen kunnen ook worden gebruikt voor het reinigen en drogen van wafers, zonder dat dit tot contaminatie leidt. Hierdoor zijn de cyclustijden korter, het rendement hoger en het energieverbruik lager per gefabriceerde wafer – zonder dat de thermische precisie wordt opofferd.
Hier zijn de praktische details: voor de installatie moet de spanning en de aansluiting van het apparaat worden aangepast. Vervolgens moet er worden gecontroleerd of de warmteoverdracht naar het apparaat goed werkt. De modules zijn compact, maar er moet wel ruimte zijn voor luchtstroom en onderhoud. Er zal een korte inwerktijd nodig zijn om de instellingen aan te passen aan de behoeften van de fotorezistent. Eenmaal ingesteld, blijft het proces constant, shift na shift.