Memanfaatkan Kekuatan Pemanasan Wafer Secara Optimum
Ketika berurusan dengan alat pemanas dalam bilik bersih untuk semikonduktor, tujuannya bukan sekadar untuk “memanaskan objek tersebut”. Sebenarnya, tujuannya adalah untuk menghantar tenaga tepat ke tempat yang diperlukan, iaitu pada permukaan wafer itu sendiri.
Kebanyakan orang menggunakan lampu kuarsa biasa, tetapi lampu-lampu ini memancarkan haba ke semua arah. Tanpa rancangan yang tepat, separuh daripada tenaga yang digunakan akan terbuang begitu sahaja. Ini merupakan pembaziran tenaga yang sia-sia.
Itulah sebabnya kami menggunakan reflektor yang dilapisi emas.
Kehebatan emas
Emas sangat efektif dalam menangkap gelombang inframerah. Ia mampu memantulkan lebih dari 98% daripada tenaga tersebut. Dengan meletakkan lapisan emas yang tipis pada permukaan alat pemanas, kita dapat menghalang foton-foton tersebut daripada tersebar dan memantulkannya kembali ke arah wafer.
Dengan cara ini, haba yang dihasilkan menjadi lebih terfokus. Ini bermakna tekanan haba pada wafer akan meningkat, dan anda tidak perlu meningkatkan kuasa pemanas untuk mencapai suhu yang diinginkan.
Kelajuan vs. Kawalan
Kelebihan utamanya ialah kelajuan. Suhu yang diinginkan dapat dicapai dengan lebih cepat, sekali gus mengurangkan masa yang diperlukan untuk proses pemanasan.
Namun, ada juga kelemahannya. Kerana tenaga yang digunakan sangat terfokus, wafer akan panas dengan cepat. Jika pengawal suhu PID tidak diset secara tepat, suhu wafer boleh melebihi tahap yang diinginkan. Anda perlu memastikan kalibrasi sensor berfungsi dengan baik agar tepi-tepi wafer tidak terbakar.
Menggunakannya dalam bilik bersih
Kami tahu ruang dalam alat pengangkut ini sangat terhad, jadi kami memastikan saiz alat tersebut kecil. Kami juga memastikan lapisan emas tersebut tertutup rapat. Dengan cara ini, tiada debu logam atau kontaminasi lain yang akan masuk ke dalam bilik bersih.
Selain itu, ia juga dapat mengurangkan beban elektrik yang digunakan. Apabila alat ini disambungkan ke sistem bekalan elektrik, penggunaan kuasa akan berkurangan, sementara suhu permukaan wafer tetap stabil. Ini merupakan cara yang mudah untuk mengurangkan beban pada sistem elektrik di fasiliti tersebut.