Sensori di temperatura per strumenti per wafer
Nelle linee di produzione, si sa come funzionano le cose: anche un piccolo cambiamento nella temperatura di cottura può causare variazioni di pochi...
Lampada per essiccatore di wafer DNS (Screen)
Durante il processo di litografia, il fotoresist non tollera alcun tipo di deviazione nelle condizioni termiche. Anche una piccola variazione nella...
Riscaldatore per imballaggio a livello di wafer a diffusione
Nella linea di produzione FO-WLP, lo strato di ridistribuzione del calore è fondamentale per garantire una corretta gestione della temperatura. Anche...
Apparecchiature per la linea di fabbricazione dei wafer
Sulla fabbrica Nel piano di produzione, una cottura del fotoresist non è solo un passaggio di temperatura. È una tolleranza. Un’escursione di...
Riscaldatore a infrarossi personalizzato per wafer
Sugli aspetti tecnici Nella sala litografica, una deriva di 0,5°C nella cottura del fotoresist non è un “piccolo errore”. Si traduce in...
Lampada a infrarossi per asciugatura di wafer di silicio
Guarda un wafer uscire dall’ultimo risciacquo. Se la fase di asciugatura non è eseguita correttamente, si formano aloni d’acqua, gli strati di...