Di area produksi, Anda pasti tahu prosedurnya. Proses pemanasan yang terlalu lembut, bahkan sebesar setengah derajat saja, dapat mengubah dimensi-dimensi kritis dari wafer tersebut. Sebaliknya, proses pemanasan yang berlebihan tidak hanya membuang energi, tetapi juga merusak lapisan fotoresist. Yang dibutuhkan adalah sistem pemanasan yang dapat diandalkan, dari satu sesi produksi ke sesi produksi lainnya, dari satu alat ke alat lainnya, dan dari satu batch produksi ke batch produksi lainnya.
Kami merancang modul pemanasan ini menggunakan sinar inframerah gelombang pendek. Dengan cara ini, responsnya cepat dan kontrolnya akurat. Hal ini memungkinkan terciptanya keseragaman suhu pada permukaan wafer hingga ±0,1°C, sehingga setiap proses pemanasan tetap berada dalam batas yang ditentukan, tanpa penyimpangan.
Platform ini cocok digunakan di ruang kerja bersih kelas 1–100. Desainnya dirancang agar tidak menghasilkan partikel apa pun. Platform ini dapat beroperasi 24/7 tanpa masa diam yang tidak direncanakan. Penggunaan energi pun berkurang, karena panas disalurkan sesuai kebutuhan, dengan minimnya kerugian saat dalam keadaan siaga dan tanpa waktu tunggu untuk memanaskan alat.
Dalam proses litografi, proses pemanasan yang konsisten akan menjaga ketebalan lapisan fotoresist tetap stabil, sehingga mengurangi risiko munculnya cacat pada wafer. Suhu yang konsisten selama proses pemanasan juga memastikan bahwa profil wafer tetap sesuai spesifikasi, sehingga mengurangi limbah dan kebutuhan untuk melakukan pemrosesan ulang.
Platform yang sama juga dapat digunakan untuk proses pembersihan dan pengeringan wafer, tanpa menimbulkan kontaminasi. Dengan demikian, jumlah partikel di sekitar wafer tetap terkendali. Hasilnya, waktu proses menjadi lebih cepat, tingkat keberhasilan produksi meningkat, dan penggunaan energi per wafer yang diproses menurun—tanpa mengorbankan presisi termal.
Berikut adalah detail teknisnya. Untuk pemasangan, perlu disesuaikan tegangan dan antarmuka konektor alat tersebut. Selanjutnya, perlu diperiksa koneksi termalnya dengan chuck selama proses kalibrasi. Modul ini memiliki ukuran yang kompak, namun perlu diperhatikan ruang untuk aliran udara dan akses perawatan.
Proses penyesuaian parameter proses membutuhkan waktu singkat. Setelah itu, prosesnya akan berjalan secara stabil, dari satu sesi produksi ke sesi produksi lainnya.