Regardez une plaquette sortir du rinçage final. Si l’étape de séchage n’est pas maîtrisée, vous obtenez des traces d’eau, les couches sous-jacentes de photoresist commencent à se délaminer, et le rendement en pâtit. Nous avons conçu notre lampe infrarouge de séchage pour plaquettes de silicium afin d’éliminer cette variable.
Ce qui compte en interne
Elle utilise l’infrarouge à ondes courtes pour injecter l’énergie directement dans le film et le substrat. Sur la zone de cuisson, l’uniformité au niveau de la plaquette se maintient à ±0,1°C, assurant la répétabilité des températures critiques — cuisson douce, cuisson dure et post-cuisson — d’un cycle à l’autre.
Elle s’adapte aux salles blanches de classe 1 à classe 100. L’enveloppe en quartz et les composants à faible dégazage empêchent l’augmentation du nombre de particules. La puissance délivrée reste stable au-delà de 5 000 heures d’utilisation, avec une dérive d’intensité inférieure à 5 %, ce qui permet un fonctionnement continu 24/7.
Pourquoi elle convient à l’atelier
En lithographie, le traitement du photoresist impose une contrainte thermique stricte. Cette lampe atteint la température cible en quelques secondes, avec un temps de stabilisation court — ce qui réduit le temps de cycle sans compromettre le contrôle du profil.
En packaging, cette même densité énergétique accélère la polymérisation des encapsulants et des sous-remplissages, allégeant la charge des fours et raccourcissant le temps d’attente. Pour le 清洗干燥, l’énergie infrarouge extrait l’humidité résiduelle des microstructures, laissant la surface sèche et sans résidu.
Le résultat se traduit par moins de retouches, des largeurs de trait constantes et une adhérence fiable.
Ce qu’il faut bien gérer
L’installation consiste à adapter la lampe à votre machine — tension, connecteur et ouverture optique. La géométrie de réflexion doit être réglée pour éviter les points chauds sur les plaquettes à motifs.
Prévoyez une manipulation propre et un étalonnage régulier de l’intensité pour maintenir la précision d’uniformité sur de longues campagnes. Une fois aligné, le process reste conforme avec un minimum d’ajustements.