در کارخانههای تولید، شما میدانید که چه اتفاقاتی میافتد. حرارت ملایمی که حتی نیم درجه هم باشد، میتواند ابعاد مهم قطعات را تغییر دهد. حرارت زیاد نیز نه تنها انرژی را هدر میدهد، بلکه فوتورزیست را نیز از بین میبرد. آنچه که لازم است، حرارتی است که بتوان به آن اعتماد کرد؛ چه در هر شیفت، چه در هر ابزار، و چه در هر محموله.
ما ماژولهای گرمایشی خود را بر اساس امواج مادون قرمز کوتاه ساختهایم؛ این روش باعث پاسخگویی سریع و کنترل دقیق حرارت میشود. این امر باعث میشود که یکنواختی در سطح ویفر در محدوده ±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ شود؛ بنابراین هر نوع گرمایش ملایم یا شدید، در محدوده تعیینشده قرار میگیرد.
این پلتفرم برای اتاقهای پاکسازی درجه ۱ تا ۱۰۰ مناسب است؛ همچنین طوری طراحی شده که هیچ ذرهای تولید نشود. این پلتفرم ۲۴ ساعته کار میکند و هیچ توقف غیرمنتظرهای ندارد. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد، زیرا حرارت به صورت لحظهای تأمین میشود؛ همچنین هیچ اتلاف انرژی در حالت استراحت وجود ندارد.
در فرآیند لیتوگرافی، گرمایش ملایم مداوم، ضخامت فوتورزیست را ثابت نگه میدارد و از ایجاد ناهمواریها جلوگیری میکند. دمای یکنواخت در فرآیند گرمایش شدید نیز باعث میشود که پروفایلها در محدوده مشخص شده باقی بمانند؛ این امر منجر به کاهش میزان موارد بازسازی میشود.
همین پلتفرم، فرآیندهای تمیزکاری و خشک کردن ویفر را نیز انجام میدهد، بدون اینکه باعث آلودگی شود؛ همچنین تعداد ذرات در محیط کنترل میشود. این امر منجر به کاهش زمان پروسeso، افزایش بازدهی، و کاهش مصرف انرژی برای هر ویفر پردازششده میشود؛ بدون اینکه دقت حرارتی کاهش یابد.
جزئیات عملیاتی به این صورت است: نصب این پلتفرم نیازمند تطبیق ولتاژ و رابطات اتصال ابزار است؛ همچنین باید اتصال حرارتی آن به چاک بازرسی شود. این ماژول کوچک است، اما باید فضای کافی برای جریان هوا و دسترسی برای تعمیرات در نظر گرفته شود.
انتظار داشته باشید که فرآیند تنظیمات این پلتفرم کوتاه باشد؛ پس از تنظیم، فرآیند به طور مداوم ادامه خواهد داشت.