
En la línea FO-WLP, la capa de redistribución es el elemento clave para mantener el control térmico. Incluso un cambio de temperatura de 0.3°C en toda la superficie del chip puede causar estrés, deformación del molde y disminución de la productividad. Se necesita un calentador que controle eficazmente el régimen térmico; no hay lugar para conjeturas.
Lo que realmente importa
Hemos diseñado este calentador a nivel de oblea para lograr un control preciso en procesos relacionados con semiconductores. El núcleo del calentador mantiene una uniformidad térmica de ±0.1°C en toda la superficie del sustrato, de modo que cada chip recibe el mismo perfil térmico durante los procesos de curado del compuesto Epóxido, así como durante los procesos de secado del fotopolímero. La zona caliente es compatible con entornos de sala limpia, desde Clase 1 hasta Clase 100. Las superficies y materiales utilizados están seleccionados para reducir al mínimo la cantidad de partículas presentes. La ausencia total de partículas no es solo un objetivo teórico: está integrada en la geometría de la cámara, en sus sellos y en su sistema de extracción de aire. El sistema funciona las 24 horas del día, con alta repetibilidad, y su respuesta térmica está ajustada para adaptarse a ciclos cortos de procesamiento FO-WLP, sin exceder los límites permitidos.
El problema con el proceso FO-WLP es que hay muchos ciclos térmicos seguidos: secado, curado, laminado… Con este calentador, el secado del fotopolímero se realiza dentro de los rangos establecidos, las anchuras de las líneas se mantienen constantes y la integridad de los vias se mantiene durante el proceso de curado. Esto permite un flujo de calor uniforme, menos fallos debido a la deformación y menos desperdicio debido a la irregularidad térmica. El diseño con baja masa térmica reduce el tiempo de calentamiento, manteniendo al mismo tiempo la estabilidad, lo que permite un uso eficiente de energía. Los resultados son ciclos estables, una productividad predecible y menos interrupciones debido a problemas relacionados con el calentador.
Un par de consejos prácticos antes de elegir este calentador: se integra perfectamente con las herramientas estándar de procesamiento FO-WLP, pero es necesario asegurarse de que sus dimensiones y su sistema de extracción de aire sean compatibles con la maquina utilizada. También es importante tener en cuenta la estabilidad de la alimentación eléctrica en la sala limpia: caídas de voltaje pueden afectar los puntos de ajuste y reducir la uniformidad térmica. Se espera que el tiempo necesario para ajustar los parámetros PID sea breve. Una vez ajustado correctamente, el calentador mantendrá una uniformidad térmica de ±0.1°C en toda la oblea, día tras día.